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儀器設備
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原子層沉積係統 (正常)

發布時間:2019-06-30    作者:        來源:       瀏覽次數:     打印


聯係人:潘軍

儀器編號

1636343S

規格


生產廠家

芬蘭picosun

型號

R-200

製造國家

芬蘭

分類號

03040422

放置地點

亚博平台的注册 工程中心101房

出廠日期

2016/12/22

購置日期

2016/12/22

入網時間

2016/12/22

主要規格及技術指標

ALD雙腔體體結構,腔室可穩定加熱至500攝氏度;ALD腔體的極限壓強可以達到1-2mbar。

主要功能及特色

表層鍍膜,沉積製備薄膜

主要附件及配置




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